サイトマップ

  • ┣━薄膜作成装置
  • ┃  ┣━パルスレーザデポジション(PLD)
  • ┃  ┃  ┣VPLD-1000スーパミニレーザアブレーション装置
  • ┃  ┃  ┣VPLD-2000複合型レーザーアブレーション装置
  • ┃  ┃  ┗VPLD-8000大面積レーザーアブレーション装置
  • ┃  ┣━スパッタリング(SP)
  • ┃  ┃  ┣VPSD-600省スペース大面積スパッタ装置
  • ┃  ┃  ┗VPSD-□□□多元スパッタ装置
  • ┃  ┣━エバポレータ(EB)
  • ┃  ┃  ┗VPED-□□□電子ビーム蒸着装置
  • ┃  ┗━アニール
  • ┃     ┣VPRT-4000高速加熱処理装置
  • ┃     ┗VPRT-□□□スーパミニ急速加熱装置
  • ┣━真空コンポーネント
  • ┃  ┣━真空計
  • ┃  ┃  ┣GC-210クリスタルゲージ
  • ┃  ┃  ┗GPQ-111水晶・ペニング冷陰極真空計
  • ┃  ┣━RHEED
  • ┃  ┃  ┗ARH-100高速電子線回折システム
  • ┃  ┣━スパッタガン
  • ┃  ┃  ┗SPG-□□□低圧マグネトロンスパッタガン
  • ┃  ┗━オゾン
  • ┃     ┗OHS-1000高純度オゾン発生装置
  • ┗━メカニカルコンポーネント
  •    ┣━マニピュレータ
  •    ┃  ┣VBRM回転マニピュレータ
  •    ┃  ┗VBM防振・高精度5軸マニピュレータ
  •    ┣━導入機
  •    ┃  ┣VBRベローズ駆動型回転導入機
  •    ┃  ┣VMR磁気結合型回転導入機
  •    ┃  ┣VBL直線導入機
  •    ┃  ┗FK200M試料交換機
  •    ┣━ステージ
  •    ┃  ┣VB152XY*-Z*XYZステージ
  •    ┃  ┣VB-XY高精度型XYステージ
  •    ┃  ┣VB-AXY簡易型XYステージ
  •    ┃  ┣VB-ZZステージ
  •    ┃  ┗VBLSリニアステージ
  •    ┣━磁気移送機構
  •    ┃  ┗VMRLトランスファーロッド
  •    ┗━真空室隔壁窓
  •       ┣VDビューポート付アクセスドア
  •       ┗VSシャッター機構
HOME ↑ページ先頭へ 1つ前に戻る