薄膜作成装置
- 真空排気装置にＰＶＤの代表核スパッタリング、蒸着や、加熱、冷却装置を搭載し、ｎｍ〜μｍオーダーの薄膜を作成する機構です
- 真空排気装置にＰＶＤの代表核スパッタリング、蒸着や、加熱、冷却装置を搭載し、ｎｍ〜μｍオーダーの薄膜を作成する機構です
弊社オリジナルの大面積シリーズをはじめ、ＰＬＤ、スパッタ、蒸着、など薄膜生成を行う真空装置をラインナップしています。
パルスレーザデポジション（ＰＬＤ）
- パルス状の紫外線レーザを照射することで、アブレーション（昇華）させ、基板に堆積させる製膜方法です。ターゲット材料の融点が高い酸化物の成膜に適しています。
- パルス状の紫外線レーザを照射することで、アブレーション（昇華）させ、基板に堆積させる製膜方法です。ターゲット材料の融点が高い酸化物の成膜に適しています。
弊社の主力製品であり、１００台を超える実績があり。ユーザー様からの要望から生まれ、培われた豊富なアクセサリーが用意されています
スパッタリング（ＳＰ）
- ＰＶＤの代表的な製膜方法です
- ＰＶＤの代表的な製膜方法です
真空コンポーネントのスパッタガンを複数搭載した、多元スパッタ薄膜装置を得意として平行平板型などベーシックなスパッタシステムの他、 弊社オリジナルで小さなカソードで大きな基板を均一に成膜する大面積シリーズをラインナップ
エバポレータ（ＥＢ）
単発E-ガンのみを搭載したしたシンプルな蒸着装置の他に、K-セル、膜圧計、加熱の放出ガスを押える水冷式加熱機構、シュラウド（Liq−N2タイプ、水冷タイプ）も搭載したMBEも承ります。
アニール
1000℃以上の高温加熱単発E-ガンのみを搭載したしたシンプルな蒸着装置の他に、K-セル、膜圧計、加熱の放出ガスを押える水冷式加熱機構、 シュラウド（Liq−N2タイプ、水冷タイプ）も搭載したMBEも承ります。
